机译:用于UV-NIL的3D结构模板,采用灰度光刻制造
Electronic Device Laboratory, Electronic Device Operations, Dai Nippon Printing Co. Ltd., 2-2-1, Fukuoka, Fujimino-shi, Saitama 356-8507, Japan;
3D structural templates; UV-nanoimprint; gray-scale lithography; dot density modulation;
机译:用于具有灰度电子束光刻技术的UV-NIL模板制造的3D结构
机译:通过紫外纳米压印光刻(UV-NIL)制成的掩模,通过He〜+离子轰击进行人工亚微米磁性图案化
机译:二氧化硅平面波导与用灰度光刻制造的电光聚合物之间的垂直绝热过渡
机译:灰度电子束光刻制造的3D波导和光栅耦合器
机译:使用灰度光刻和深反应离子刻蚀开发深硅相菲涅耳透镜
机译:通过灰度光刻制作的3D可拉伸拱形丝带阵列
机译:UV-NIL与DUV制造的硅模板作为纳米图案的灵活工具(摘要)