机译:紫外纳米压印光刻胶脱模剂的使用寿命评估
Department of Applied Electronics, Tokyo University of Science, 2641 Yamazaki, Noda, Chiba 278-8510, Japan;
Department of Applied Electronics, Tokyo University of Science, 2641 Yamazaki, Noda, Chiba 278-8510, Japan;
Department of Applied Electronics, Tokyo University of Science, 2641 Yamazaki, Noda, Chiba 278-8510, Japan;
ultraviolet nanoimprint lithography; (UV-NIL); UV curable resin; contact angle; release agent;
机译:通过部分填充紫外纳米压印光刻技术来改善无脱模剂的抗反射结构复制模具的使用寿命
机译:使用TriboIndenter评估紫外线-纳米压印光刻胶剥离剂的性能
机译:改进的紫外线纳米压印光刻中的柱状无释放剂复制品模具的转移耐久性
机译:通过部分填充紫外纳米压印光刻技术延长防反射结构模具上脱模剂的使用寿命
机译:使用14 d可控内部药物释放插入物对卵泡波同步后的牛小母牛进行定时AI后的妊娠率评估,以及受AI或由其帮助的小母牛的终生生产力
机译:在生物制药生产中评估不定因素的紫外线敏感性
机译:通过部分填充紫外纳米压印光刻技术延长防反射结构模具中脱模剂的使用寿命
机译:用于极紫外线211光刻的mo / si和mo / Be多层涂层的寿命研究