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NEW, MATERIALS ROUNDUP

机译:新材料汇报

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摘要

Two prototype systems for copper interconnect processing have proven so successful that their manufacturer says it has accelerated shipment of the tools and added staff. ACM Research of Fremont, CA, claims key customers have reacted favorably to wafer runs using two advanced copper-process systems introduced last October. The systems, Ultra ECP and Ultra SFP, suit copper metallization requirements from the current 0.13-μm device generation to 0.035-μm linewidths, according to ACM.
机译:事实证明,两个用于铜互连处理的原型系统非常成功,制造商表示已加快了工具的交付速度,并增加了人员。加利福尼亚州弗里蒙特市的ACM Research称,关键客户对使用去年10月推出的两个先进的铜工艺系统的晶圆运行反应良好。根据ACM的说法,该系统Ultra ECP和Ultra SFP适用于铜金属化要求,从当前的0.13 µm器件到0.035 µm的线宽。

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  • 来源
    《Micro》 |2001年第9期|24-2530|共页
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  • 作者单位
  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

  • 入库时间 2022-08-18 00:11:07

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