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Three tool firms target ultrashallow junctions in San Jose submicron technology center

机译:三家工具公司瞄准圣何塞亚微米技术中心的超浅结

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摘要

Three key players in the process equipment arena have teamed up to tackle some of the more daunting challenges in submicron chip manufacturing. Varian Semiconductor Equipment Associates, Ultratech Stepper, and TEL have established a technology center where eventually a team of up to 40 engineers will examine ultrashallow junction formation for making devices at 70-nm and smaller nodes. The center will be located in San Jose, near Ultra-tech's corporate headquarters. The companies announced the launch at a joint news conference on July 15, the day before the start of Semicon West 2001 in San Francisco.
机译:制程设备领域的三个主要参与者已联手应对亚微米芯片制造中一些更为艰巨的挑战。瓦里安半导体设备协会,Ultratech Stepper和TEL建立了一个技术中心,最终由多达40位工程师组成的团队将研究超浅结的形成,以制造70纳米及更小的节点上的器件。该中心将位于圣何塞,靠近Ultra-tech公司总部。两家公司于7月15日在旧金山举行的Semicon West 2001开幕前一天的联合新闻发布会上宣布了该产品的发布。

著录项

  • 来源
    《Micro》 |2001年第8期|p.21-22|共2页
  • 作者

  • 作者单位
  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类 环境科学、安全科学;
  • 关键词

  • 入库时间 2022-08-18 00:11:04

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