首页> 外文期刊>Micro >Achieving process utility conservation and cost reductions in a 300-mm fab environment
【24h】

Achieving process utility conservation and cost reductions in a 300-mm fab environment

机译:在300毫米晶圆厂环境中实现工艺效用节省和成本降低

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
       

摘要

Volatile market pressures, global competition, and increasingly complex technology continue to challenge the microelectronics industry. While the drive to increase performance and decrease costs is not new to the semiconductor industry, the weak market and price erosion in the DRAM sector create special cost pressures that require a concerted response.
机译:瞬息万变的市场压力,全球竞争和日益复杂的技术继续挑战微电子行业。虽然提高性能和降低成本的驱动力对半导体行业来说并不是新生事物,但DRAM市场的疲软和价格侵蚀却造成了特殊的成本压力,需要采取一致的应对措施。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号