画像処理プラットフォームを応用した検査アプリケーション-ウェハ 検査装置「FAVIS-1000」

摘要

半導体プロセスは，いまや45nmレベルの製造プロセスが始 まろうとするなど，その微細レベルは年々進歩している。こう した微朝な検査に対応するには，SEMなどの観測系と膨大な 情報量を実用的なスループットで処理する大掛かりなシステム が必要で，その費用は数億円レベルともなって，高価である。 メモリヤプロセッサなど最先端のプロセスにより大量に生産さ れるデバイスについては，高価な設備導入も可能であるが，多 品種少量生産のデバイスにあっては，設備へのコストに制約が 生じる。こうした多品種少量品としては，パワーデバイスや MEMSデバイスなどの検査装置ユーザーがある。