机译:水蒸气,加热以及化学和机械抛光对钝化的MOS电容器的影响
A. glasses; B. sputtering; C. infrared spectroscopy; D. electri- cal properties;
机译:化学和机械抛光对暴露于水蒸气的AIF3-GeO2-B2O3玻璃钝化的MOS电容器的电容-电压曲线恢复的影响
机译:PbO基玻璃钝化的MOS电容器的水蒸气暴露
机译:机械研磨与化学辅助机械抛光以及化学气相沉积(CVD)金刚石平面化的比较
机译:通过化学机械抛光从Cu + 1前驱体中进行铜的CVD和水蒸气以及形成TiN封装的亚微米铜互连件
机译:二氧化铈浆料在电介质化学机械抛光中的化学作用表征。
机译:水蒸气吸收对无定形消炎痛钠物理化学稳定性的影响
机译:嵌入sa / pVa和pH的磁性纳米粒子对化学机械抛光废水和磁性颗粒再生和循环的影响