机译:介电常数低的碳插层埃洛石及其有机硅杂化膜的结构和性能
South China Univ Technol, Coll Mat Sci & Engn, Guangzhou 510640, Guangdong, Peoples R China;
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Halloysite; Intercalation; Crystalline structure; Low dielectric constant; Organosilicone hybrid film;
机译:多孔二氧化硅涂层碳质球的纳米结构研究及其有机硅氧烷杂交膜的介电性能
机译:用PECVD沉积的纳米孔结构的碳掺入低介电常数SiOC(-H)膜的粘合配置和电性能
机译:通过有机/无机聚合物杂化制备的低介电常数纳米多孔聚(甲基倍半硅氧烷)薄膜的结构-性质关系
机译:通过有机/无机聚合物杂交种制备的低介电常数纳米多孔聚(甲基 - 倍半硅氧烷)膜的结构 - 性质关系
机译:用于超低介电常数层间电介质应用的含氟和碳的PECVD膜和类金刚石碳膜的研究。
机译:原位制备花状TiO2 /碳纳米结构作为具有增强介电性能的聚合物复合材料的填料
机译:用于薄膜电容器的改进的Halloysite纳米管填充聚酰亚胺复合材料:高介电常数,低介电损耗和优异的耐热性