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紫外線照射および熱キュア処理した潤滑膜形成磁気ディスクの原子間力顕微鏡およびボールオンディスク試験による表面評価

机译:通过原子力显微镜和圆盘法测试对经紫外线照射和热固化的润滑膜形成磁盘的表面评估

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摘要

近年,磁気ディスク装置について,ますます大容量化の要求が高まり高密度記録,低価格化が実現され,急速に発展している。更なる高密度記録化を実現させるためには,磁気ディスクと磁気ヘッドのすきまを小さくすることが検討されている。そのためには保護膜厚の低減が欠かせないが,磁気ヘッドと磁気ディスクの接触による耐久性を維持する必要がある。そこで,磁気ヘッドの磁気ディスクへの接触による極表面層への影響,変化といったトライボロジー特性が磁気ディスクの信頼性向上に対して重要な役割をはたしている。%To improve the durability of magnetic disk and head interfaces, various treated Z-tetraol lubricants are coated on diamond-like carbon (DLC) films used to protect magnetic disks. In this study, ultraviolet (UV) irradiation and thermal curing are performed on a Z-tetraol lubricant, and their effect on the adhesion and repairability of the DLC protective film is evaluated by the nanoindentation and force modulation by atomic force microscopy (AFM). Then, to evaluate the durability of treated magnetic disks coated with lubricant, ball-on-disk friction test were performed. The friction coefficients of magnetic disks treated by 5 min UV irradiation are stable over time, and friction damages is also less than that observed for disks treated by thermal curing. These superior properties of UV-irradiated disks are consistent with nanotribological results evaluated by AFM and are due to strong adhesion and high repairability. Very small areas of damage formed by friction can be estimated by nanometer-scale changes of the surface profile, current distribution and the friction distribution evaluated by AFM force modulation. It was observed that the lubricant on protruding areas was removed, resulting in increased wear.
机译:近年来,对于磁盘装置,对更大容量的需求不断增长,并且已经实现了高密度记录和降低成本,并且飞速发展。为了实现更高密度的记录,考虑减小磁盘和磁头之间的间隙。为此,必须减小保护膜的厚度,但是由于磁头和磁盘之间的接触,必须保持耐久性。因此,由于磁头与磁盘的接触而对磁极表层产生影响和变化的摩擦学特性在提高磁盘的可靠性方面起着重要的作用。为了提高磁盘和磁头界面的耐用性,将各种经过处理的Z-四醇润滑剂涂在用于保护磁盘的类金刚石碳(DLC)膜上。 Z-四醇润滑剂及其对DLC保护膜的附着力和可修复性的影响通过原子力显微镜(AFM)的纳米压痕和力调制来评估,然后评估涂有润滑剂,球的已处理磁盘的耐久性经过5分钟的紫外线辐照处理的磁盘的摩擦系数随时间变化是稳定的,并且摩擦损伤也小于通过热固化处理的磁盘所观察到的摩擦系数。与原子力显微镜(AFM)评估的纳米摩擦学结果是一致的,这归因于其强大的附着力和较高的可修复性。通过AFM力调制评估表面粗糙度,电流分布和摩擦分布的米级变化,观察到突出区域的润滑剂被去除,导致磨损增加。

著录项

  • 来源
    《トライボロジスト》 |2011年第9期|p.577-584|共8页
  • 作者单位

    日本工業大学大学院生 〒345-8501埼玉県南埼玉郡宮代町学園台4丁目1;

    日本電産コパル(株)郡山技術開発センター 〒963-8637;

    福島県郡山市富田町字諏訪内37;

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