机译:使用热丝化学气相沉积(CVD)系统在纳米管涂覆的Si衬底上金刚石成核
Thin Film Technology Lab., School of Chemical Engineering, Chonbuk National University, Chonju 561-756, Republic of Korea;
HFCVD; diamond; carbon nanotubes seeding;
机译:在低于200 C的基材温度下通过热丝化学气相沉积法涂覆有金刚石纳米晶体和碳化硅的碳纳米管
机译:碳纳米管成核剂通过热丝化学气相沉积法生长金刚石的机理
机译:微波等离子体化学气相沉积和热丝化学气相沉积技术在硅衬底上生长金刚石薄膜的比较研究
机译:热长丝化学气相沉积的金刚石膜的制备及碳纳米管的成核作用
机译:重硼掺杂超导金刚石在设备应用中的热丝化学气相沉积(HFCVD)研究。
机译:使用化学气相沉积(CVD)在铝箔和硅基底上超快图案化垂直排列的碳纳米管森林
机译:用热丝化学气相沉积与碳纳米管成核试剂的金刚石生长机制