机译:基体偏压对封闭场不平衡磁控溅射离子镀法制备的纳米多层CrTiAlN纳米涂层的力学和摩擦学性能的影响
Advanced Coatings Applied Research Laboratory (ACARL), Department of Manufacturing Engineering and Engineering Management (MEEM), 83 Tat Chee Avenue, City University of Hong Kong, Kowloon Tong, Kowloon, Hong Kong SAR, China;
CrTiAlN coatings; hardness; ball-on-disc;
机译:基底偏置对封闭场不平衡磁控溅射离子镀法制备的纳米多层CrTiAIN多层涂层力学和摩擦学性能的影响
机译:封闭场不平衡磁控溅射离子镀制备的溅射沉积MoS {sub} 2 /金属复合涂层的涂层特性和摩擦学性能
机译:封闭磁场非平衡磁控溅射离子镀等离子渗氮对H13钢CrTiAlN涂层附着强度的影响
机译:衬底偏置对纳米级多层CRTIALN涂层的机械和摩擦学性能的影响,通过封闭的场不平衡磁控溅射离子镀法制备
机译:通过磁控溅射合成的二硼化钛/碳化钛和氧化钛/氧化铝多层涂层的结构,机械,摩擦学性能和高温稳定性。
机译:磁控溅射制备CrNx / Ag多层膜的微观结构和力学性能
机译:基材转速对使用大功率脉冲磁控溅射制备的CRN / Cralin多层涂层结构和粘附性能的影响
机译:基板温度,偏压,退火和Cr sub 3 si sub 2底涂层对射频溅射mos sub 2涂层摩擦学性能的综合影响的统计研究