机译:使用WF6和Si2H6沉积钨原子层期间的气相反应产物
Univ Colorado, Dept Chem & Biochem, Boulder, CO 80309 USA;
CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION; SEQUENTIAL SURFACE-REACTIONS; BINARY REACTION SEQUENCE; OXIDE THIN-FILMS; CONTROLLED GROWTH; CHEMISTRY; EPITAXY; HEXAFLUORIDE; SPECTROSCOPY; RUTHENIUM;
机译:WF6和Si2H6沉积硅化钨化学气相的动力学模型:反应方案和气相反应速率的确定
机译:气相红外光谱法得出的铂原子层沉积过程中的表面反应
机译:异丙基酰亚胺基和烯丙酰亚胺基钨前体气相反应用于碳氮化钨薄膜化学气相沉积的计算研究:对载气选择的启示
机译:用NH_3脉冲等离子体和WF_6气体的钨氮化物扩散屏障的新原子层沉积
机译:氧化物表面的化学性质:水和HCl在α氧化铝(0001)上的反应以及钨的原子层沉积。
机译:基于FT-IR和QM的气相环戊二烯基Tris(二甲基氨基)锆(CpZR(NME2)3)的原位监测系统的热分解基于FT-IR和原子层沉积
机译:通过Si2H6和C2H2的低压化学气相沉积在873k中合成SiC膜的气相反应
机译:从WF6 / siH4和WF6 / GeH4中化学气相沉积钨