机译:GaAs衬底上(Ga,In)(N,As)稀释的氮化物异质结构在1.3-1.55μm处的界面结构与发光之间的相关性
Paul Drude Inst Solid State Elect, D-10117 Berlin, Germany;
MOLECULAR-BEAM EPITAXY; GAINNAS QUANTUM-WELLS; OPTICAL-PROPERTIES; SPINODAL DECOMPOSITION; LASER-DIODES; BAND-GAP; ALLOYS; TEMPERATURE; PERFORMANCE; MECHANISMS;
机译:在GaAs衬底上具有量子限制的InGaAsN层的异质结构的光学性质,并且在1.3-1.55μm处发射
机译:应变补偿的InAs / InGaAsN / GaAsN异质结构在1.3-1.55μm光谱范围内的激光特性
机译:稀氮化硅GaAsN / GaAs异质结构纳米线在Si衬底上的生长
机译:使用偶极子/ spl增量/掺杂在GaAs上从InGaAs / GaAs量子阱发出1.3-1.55 / spl mu / m的光
机译:发光二极管的氮化镓/蓝宝石和氧化锌/蓝宝石异质结构(极性和非极性)中的薄膜外延,缺陷和界面。
机译:界面设计的MoS2 / GaAs异质结构太阳能电池具有夹层堆叠的六方氮化硼
机译:外延高产内在和TE掺杂稀氮化物Gaassbn纳米线异质结构和集合光电探测器应用
机译:alGaas / Gaas异质结构的外延层和衬底界面的成分不均匀性