机译:TaN栅极nMOSCAP和nMOSFET器件中HfOxNy和HfO2栅极电介质的结构和电性能
Chungnam Natl Univ, Dept Mat Engn, Taejon 305764, South Korea;
机译:HfO2栅极电介质上Nb / NbNx栅极的结构和电性能
机译:带有多晶硅栅电极的CVD HfOxNy栅介质的电性能和热稳定性
机译:用NH3 - 血浆处理的HFO2改进顶部栅极MOS2晶体管的电性能作为栅极电介质
机译:TaN或多层NMOSCAP和NMOSFET器件中超薄ZrO / sub 2 /和ZrO / sub x / N / sub y /栅极电介质的比较
机译:先进CMOS器件中金属栅极与高k栅极电介质的相互作用。
机译:氟化HfO2 / SiON栅堆叠的单轴应变nMOSFET的电学特性
机译:具有CeO2 / HfO2叠层栅极电介质的金属-高-k氧化物半导体场效应晶体管的电和界面特性