机译:室温下Si(111)上纳米晶碳化硅的外延
Istituto dei Materiali per l'Elettronica ed il Magnetismo, IMEM-CNR, Sezione FBK di Trento, 38123 Trento, Italy;
Istituto dei Materiali per l'Elettronica ed il Magnetismo, IMEM-CNR, Sezione FBK di Trento, 38123 Trento, Italy;
Istituto dei Materiali per l'Elettronica ed il Magnetismo, IMEM-CNR, Sezione FBK di Trento, 38123 Trento, Italy;
Istituto dei Materiali per l'Elettronica ed il Magnetismo, IMEM-CNR, Sezione FBK di Trento, 38123 Trento, Italy,Interdisciplinary Laboratory for Computational Science, FBK-CMM and University of Trento, 38123 Trento, Italy,Department of Physics, University of Trento, 38123 Trento, Italy, and Istituto Nazionale di Fisica Nucleare, Sezione di Perugia, 06123 Perugia, Italy,Dipartimento di Chimica, Universita di Bologna, 40126 Bologna, Italy;
Interdisciplinary Laboratory for Computational Science, FBK-CMM and University of Trento, 38123 Trento, Italy,Department of Physics, University of Trento, 38123 Trento, Italy, and Istituto Nazionale di Fisica Nucleare, Sezione di Perugia, 06123 Perugia, Italy;
Department of Earth Sciences, Department of Physics and Astronomy, and London Centre for Nanotechnology, University College London, Gower Street, London WC1E 6BT, U.K.,Institut fuer Physik, Humboldt-Universitaet zu Berlin,12489 Berlin, Germany;
Istituto dei Materiali per l'Elettronica ed il Magnetismo, IMEM-CNR, Parco Area delle Scienze 37/A, 43124 Parma, Italy;
Istituto dei Materiali per l'Elettronica ed il Magnetismo, IMEM-CNR, Parco Area delle Scienze 37/A, 43124 Parma, Italy;
Istituto dei Materiali per l'Elettronica ed il Magnetismo, IMEM-CNR, Parco Area delle Scienze 37/A, 43124 Parma, Italy;
Istituto dei Materiali per l'Elettronica ed il Magnetismo, IMEM-CNR, Parco Area delle Scienze 37/A, 43124 Parma, Italy;
机译:通过沉积120 eV碳和硅离子在纳米晶碳化硅膜生长期间衬底表面的温度行为
机译:SiH_4 / CH_4 / H_2在不同衬底温度下通过热线化学气相沉积制备的纳米晶立方碳化硅薄膜的性能
机译:通过射频溅射系统在硅(111)上生长的低温纳米晶氮化硅膜
机译:热丝化学气相沉积在不同灯丝温度下制备纳米晶碳化硅薄膜
机译:氢/硅(001)上低温硅外延和硅(111)-7x7上磷化氢吸附的扫描隧道显微镜研究。
机译:纳米晶碳化硅的晶界抗非晶化性能
机译:分子束外延在六边形碳化硅(0001)上的结晶氧化镁的低温生长
机译:碳化硅基材料的高温发射率。第1卷:碳化硅基材料的高温正常光谱发射率。第2卷。热处理对碳化硅基材料发射率的影响。专题报道