机译:氨化温度对带有Tb中间层的一维GaN纳米棒微观结构的影响
College of Physics & Electronics, Shandong Normal University, 250014 Jinan, People's Republic of China;
College of Physics & Electronics, Shandong Normal University, 250014 Jinan, People's Republic of China;
GaN nanorods; sputtering deposition; ammoniating temperature; light emitting properties;
机译:氨化温度对带有Tb中间层的一维GaN纳米棒微观结构的影响
机译:含Tb中间层的一维GaN纳米棒的制备与表征
机译:氨化温度对镁掺杂一维GaN纳米线微观结构和光学性能的影响
机译:氨化温度对以V为中间层的GaN纳米线生长的影响
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机译:在不同温度下通过脉冲激光沉积在AlN / Si异质结构上外延生长的GaN薄膜的微观结构和生长机理
机译:RF等离子体辅助分子束外延在中温GaN缓冲层上生长的高迁移率GaN外延层