机译:金属有机化学气相沉积法生长Ga_xIn_(1-x)As_(1-y)Sb_y合金
Chang Chun Institute of Physics, Academia Sinica, 130021 Chang Chun, P.R. China;
GaInAsSb; metalorganic chemical vapor deposition (MOCVD); scanning electron acoustic microscopy (SEAM);
机译:形成金属有机化学气相沉积中调制CBr_4掺杂前体流的双异质结双极晶体管的成分渐变In_xGa_(1-x)As_(1-y)Sb_y基极的简单方法
机译:金属有机化学气相沉积使用CBr_4在GaAs衬底上Ga_xIn_(1-x)As_yP_(1-y)中的碳掺杂和腐蚀
机译:Ga_xIn_(1-x)As_(1-y)Sb_y的能带隙与成分和温度的关系计算
机译:Ga_xin_(1-x)As_(1-y)Sb_y和Ga_xin_(1-x)Sb合金的MOCVD生长:生长参数对其固体组合物的影响
机译:金属有机气相外延生长过程中In(x)Ga(1-x)N / In(y)Ga(1-y)N多量子阱结构的稳定性
机译:具有可控AsxSb1-x界面的InAs / GaSb II型超晶格的金属有机化学气相沉积生长
机译:与scGaN和YGaN合金的金属有机化学气相沉积相关的问题。
机译:嵌入In0.49(al(x)Ga(1-x))0.51p金属有机化学气相沉积Inp自组装量子点的性质。