首页> 外文期刊>Journal of Electronic Materials >Monitoring of MOCVD Reactants by UV Absorption
【24h】

Monitoring of MOCVD Reactants by UV Absorption

机译:通过紫外线吸收监测MOCVD反应物

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
       

摘要

In this paper, we describe how UV absorption measurements can be used to measure the flow rates of metalorganic chemical vapor deposition (MOCVD) reactants. This method utilizes the calculation of UV extinction coefficients by measuring the total pressure and absorbance in the neat reactant system. The development of this quantitative reactant flow rate monitor allows for the direct measurement of the efficiency of a reactant bubbler. We demonstrate bubbler efficiency results for TMGa, and then explain some discrepancies found in the TMAl system due to the monomer to dimer equilibrium. Also, the UV absorption spectra of metalorganic and hydride MOCVD reactants over the wavelength range 185 to 400 nm are reported.
机译:在本文中,我们描述了如何使用紫外线吸收测量来测量金属有机化学气相沉积(MOCVD)反应物的流速。该方法通过测量纯反应物系统中的总压力和吸收率来利用紫外线消光系数的计算。这种定量反应物流速监控器的发展允许直接测量反应物起泡器的效率。我们展示了TMGa的起泡效率结果,然后解释了由于单体至二聚体平衡而在TMA1系统中发现的一些差异。另外,据报道,金属有机和氢化物MOCVD反应物在185至400nm波长范围内的UV吸收光谱。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号