机译:快速热退火对溅射CuCu 3 sub> Ti 4 sub> O 12 sub>薄膜的影响
机译:快速热退火对溅射CaCu_(3)Ti_(4)O_(12)薄膜的影响
机译:退火温度对紫外光照射下溅射涂层CaCu3Ti4O12薄膜形态学和光催化活性的影响
机译:射频磁控溅射沉积在Pt / Ti / SiO_2 / Si衬底上的CaCu_3Ti_4O_(12)薄膜的沉积和介电性能
机译:通过多种快速热退火技术改善溶胶 - 凝胶沉积Bi_4Ti_3O_(12)薄膜的铁电和电性能
机译:(100)硅上溅射镍钛薄膜的等温和等时退火过程中的应力演变。
机译:快速热退火用于射频磁控溅射沉积的高质量ITO薄膜
机译:使用射频磁控溅射在$ Pt / Ti / SiO_2 / Si $衬底上沉积的$ CaCu_3Ti_4O_ {12} $薄膜的沉积和介电特性