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机译:MOCYD的低于大气压的氢化物气源和输送系统的性能
Matheson Tri-Gas, Inc., 1861 Lefthand Circle, Longmont, CO 80501, USA;
A1. Adsorption; A1. Characterization; A1. Impurities; A3. Metalorganic chemical vapor deposition; B2. Semiconducting Ⅲ-Ⅴ materials;
机译:使用低于大气压的氢化物气源进行MOCVD的安全性益处
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机译:研究用于高压金属氢化物氢压缩机和使用镧-镍和利用热能的钙-混合金属镍的双级金属氢化物氢压缩系统中的钙-混合金属镍。
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