机译:锗前体的蒸气压
Department of Semiconductors, Institute of Physics, Academy of Sciences of the Czech Republic, v. v. i, Cukrovarnicka 10, 162 00 Prague 6, Czech Republic;
a1. characterization; a1. phase equilibria; a3. metalorganic vapor phase epitaxy; b1. germanium compounds;
机译:使用二氟化硅和四氯化锗作为前体通过化学气相沉积法形成多晶GexSi1-x薄膜
机译:MoO3薄膜作为共蒸发的前驱体,以均匀的基于压力的化学气相沉积法生长MoS2。
机译:使用含锗前体和空心阴极技术的耐腐蚀内涂层方法已获专利
机译:用锗和硅锗化学气相沉积的二甲基氨基甲磺酰氯化物作为新型碳掺杂剂和锗前体的评价
机译:通过管状热壁低压化学气相沉积系统选择性外延生长硅锗。
机译:极低的蒸气压数据作为离子液体的PC-SAFT参数估计和离子液体中前体溶解度的建模
机译:锗前体的金属有机化学气相沉积特性