机译:通过选择性Movpe演示平面厚Inp层
Alcatel Thales Ⅲ-Ⅴ Lab, Route de Nozay, F-91461 Marcoussis, France;
a3. metal-organic vapor-phase epitaxy; a3. selective epitaxy; b2. inp;
机译:双异质结晶格匹配和伪形InGaAs HEMT,具有通过LP-MOVPE生长的掺do InP供应层和p-InP势垒增强层
机译:Gasxin_(1-x)作为盖层的Inas / inp Qds,采用Movpe选择性区域生长的双帽工艺
机译:基于InP的二维光子晶体InP和InGaAs柱结构的选择性区域MOVPE生长
机译:具有新型III和V组前体的GaInAs-InP结构的平面和选择性MOVPE
机译:通过选择性地区MOCVD生长的异膜厚GaN层和垂直大功率器件
机译:MOVPE在晶圆级厚氮化硼层上的柔性金属-半导体-金属器件原型
机译:掺Mn的GaInAs / InP层的MOVPE生长研究