机译:Ni修饰的单层MoS_2分子吸附的第一性原理研究
Sharif Univ Technol, Nanotechnol Res Inst, Tehran, Iran;
Grad Univ Adv Technol, Dept Telecommun & Elect Engn, Kerman, Iran|Sharif Univ Technol, Phys Dept, Tehran, Iran;
Inst Res Fundamental Sci IPM, Sch Nano Sci, Tehran 193955531, Iran|Inst Res Fundamental Sci IPM, Sch Phys, Tehran 193955531, Iran;
MoS2 monolayer; Xylene; Methanol; Density function theory; Ni-decorated MoS2;
机译:Ni装饰单层MOS_2上分子吸附的第一原理研究
机译:Cl_2,PH_3,AsH_3,BBr_3和SF_4气体在S和Mo空位的MoS_2单层上的吸附的第一性原理研究
机译:具有S和Mo空缺的MOS_2单层的CL_2,PH_3,ASH_3,BBR_3和SF_4气体吸附的第一原理研究
机译:使用没有分子修复H-BN单层的N - 空位:第一原理研究
机译:双金属催化表面上有序和吸附行为的第一性原理研究
机译:甲醛分子在Zn掺杂单层MOS2上吸附:第一原理计算
机译:屠胶单层上分子的吸附,气体感测和光学性质:一项研究
机译:在al(111)表面上吸附硝基甲烷和1,1-二氨基-2,2-二硝基乙烯(FOX-7)分子的第一性原理计算