机译:使用马哈拉诺比斯距离解决溅射过程中薄膜厚度均匀性质量问题
a Institute of Manufacturing Information and Systems, National Cheng Kung University, Tainan 701, Taiwan, R.O.C. Phone: 886â6â2757575 ext. 34225 Fax: 886â6â2757575 ext. 34225 E-mail: b Institute of Manufacturing Information and Systems, National Cheng Kung University, Tainan 701, Taiwan, R.O.C.;
机译:利用马哈拉诺比斯距离解决溅射过程中薄膜厚度均匀性质量问题
机译:用于太阳能电池和其他设备的RF溅射ZnO薄膜的厚度均匀性和光学/结构评估
机译:厚度均匀性和表面形态对大面积II-VI半导体异质结构太阳能电池溅射CdTe薄膜的电和光学性能的影响
机译:多元质量控制图在解决薄膜厚度均匀性质量问题中的应用-TFT-LCD制造中的等离子溅射案例
机译:等离子体能量,等离子体功率,工作距离和惰性气体压力对溅射热弹性钛镍薄膜组成的影响。
机译:厚度和溅射压力对定向柱状钨薄膜电阻率和弹性波传播的影响
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机译:使用mahalanobis距离的BpsG薄膜的多变量分类