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The use of mahalanobis distance in solving the sputtering process thin‐film thickness uniformity quality problem

机译:使用马哈拉诺比斯距离解决溅射过程中薄膜厚度均匀性质量问题

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  • 来源
    《Journal of the Chinese Institute of Engineers》 |2010年第7期|p.1021-1033|共13页
  • 作者单位

    a Institute of Manufacturing Information and Systems, National Cheng Kung University, Tainan 701, Taiwan, R.O.C. Phone: 886–6–2757575 ext. 34225 Fax: 886–6–2757575 ext. 34225 E-mail: b Institute of Manufacturing Information and Systems, National Cheng Kung University, Tainan 701, Taiwan, R.O.C.;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

  • 入库时间 2022-08-18 00:49:03

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