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Recombination instabilities in semiconductors doped with deep two‐level traps

机译:掺杂深两能级陷阱的半导体中的重组不稳定性

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摘要

This paper presents a general theory of the recombination‐wave diode, i.e., of a bulk semiconductor doped with deep two‐level traps. Such theory includes other proposed models as particular cases. The range of validity of such models is discussed. The high‐frequency carrier lifetimes are compared with the dc lifetimes and with experimental values on gold‐doped silicon. A limiting condition to obtain oscillations is determined on the semiconductor doping. The theoretical results concerning the oscillation frequency and the threshold voltage are compared with experimental data on gold‐doped silicon.
机译:本文介绍了复合波二极管的一般理论,即掺杂有深两级陷阱的体半导体的理论。这种理论包括其他提出的模型作为特殊情况。讨论了此类模型的有效性范围。将高频载流子寿命与直流寿命以及掺金硅的实验值进行比较。在半导体掺杂上确定获得振荡的限制条件。将有关振荡频率和阈值电压的理论结果与掺金硅的实验数据进行了比较。

著录项

  • 来源
    《Journal of Applied Physics 》 |1972年第11期| 共5页
  • 作者单位

    Istituto di Elettrotecnica, Università di Genova;

    Viale Cambiaso 6, Genoa 16145, Italy;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

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