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Deep levels produced by pairs of impurities in InP

机译:InP中成对的杂质产生的深能级

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摘要

The major chemical trends in the energy levels of nearest‐neighbor‐paired, substitutional, sp3‐bonded defects in InP are predicted. Schemes for manipulating the deep levels of an isolated impurity by pairing with a second impurity are proposed, and applied to the isolated deep C donor and the deep P‐antisite defect in InP.
机译:预测了InP中最近邻配对,取代性,sp3键缺陷的能级中的主要化学趋势。提出了通过与第二种杂质配对来操纵分离出的杂质深水平的方案,并将其应用于分离出的深C供体和InP中的深P反位缺陷。

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  • 来源
    《Journal of Applied Physics》 |1981年第8期|P.5139-5142|共4页
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  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
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