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机译:以二氯硅烷为硅前体,通过化学气相沉积在1°切向衬底上的6H-SiC同质外延生长中的阶跃动力学
University of South Carolina, Columbia, South Carolina 29208, USA|c|;
机译:以二氯硅烷为硅前体,通过化学气相沉积在1°切向衬底上的6H-SiC同质外延生长中的阶跃动力学
机译:使用双三甲基甲硅烷基甲烷前驱体通过金属有机化学气相沉积法同质外延生长6H-SiC薄膜
机译:等离子体辅助热丝化学气相沉积过程中基片刻面对金刚石同质外延生长的影响
机译:化学气相沉积法在近轴(0001)上大面积均质外延生长6H-SiC
机译:流体动力学和反应器设计对金属有机化学气相沉积在硅衬底上氮化镓外延生长的影响。
机译:基于WO3前驱体滴铸底材的化学气相沉积法方便可控制地合成大面积单层WS2薄片
机译:在化学气相沉积期间加入HCl在轴上的6H-SiC上产生6H-SiC的控制生长在轴上(0001)基板上
机译:通过微波等离子体辅助化学气相沉积在高温下高生长率同质外延金刚石膜沉积