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机译:陷阱电荷引起的栅氧化层击穿
Univ Florida, Dept Elect & Comp Engn, Gainesville, FL 32611 USA;
LOCALIZED STATES; SILICON DIOXIDE; SOFT BREAKDOWN; GENERATION; RECOMBINATION; TRANSISTORS; DEGRADATION; DIELECTRICS; INTERFACE; CAPTURE;
机译:氢对陷阱氧化物的产生,正电荷陷阱以及时间相关的栅极氧化物介电击穿的影响
机译:氮化和再氧化的氮化氧化物中电荷陷阱的栅极偏置极性依赖性和随时间变化的介电击穿
机译:栅极氧化过程中由于电荷陷阱和磷污染物引起的栅极氧化物的瞬时泄漏
机译:ESD应力化的薄MOS栅极氧化物中的击穿前电荷陷阱
机译:金属氧化物半导体电容器中电子束感应电流的俘获电荷界面调制。
机译:用电子自旋共振光谱研究氢过氧化物和过氧化脂肪酸的光解。在有机溶剂中自旋捕获烷氧基和过氧自由基。
机译:薄氧化物中的电荷 - 击穿和陷阱产生过程
机译:N(sub 2)O氧化物中的电荷俘获和击穿