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机译:阴极电弧辅助中频磁控溅射制备Ti掺杂氮化碳薄膜中β-C_3N_4纳米晶体的形成
Accelerator Laboratory, School of Physics, Wuhan University, Wuhan 430072, China;
carbon nitride; film; nanocrystal; TEM; magnetron sputter;
机译:退火对中频磁控溅射沉积氮化碳膜成分,结构和力学性能的影响
机译:阴极弧增强中频磁控溅射制备含钛非晶碳涂层的结构和摩擦学性能
机译:阴极电弧增强中频磁控溅射制备含钛非晶碳涂层的结构和摩擦学性能
机译:MW-ECR等离子增强磁控溅射制备氮化碳膜的化学结构
机译:非垂直入射反应磁控溅射制备的金属氮化物(氮化铝,氮化钛,氮化ha)薄膜的织构演变。
机译:前驱体C2H2分数对磁控溅射沉积制备的含Si和Ag的非晶碳复合膜的组织和性能的影响
机译:射频磁控管和滤波阴极电弧共沉积制备的氮化硅/类金刚石碳复合薄膜的拉曼表征和力学性能