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机译:氢化非晶氮化碳膜的异丁烷/ N_2脉冲射频磁控等离子体化学气相沉积,用于场发射应用
Research Institute of Electronics, Shizuoka University, Hamamatsu 432-8011, Japan;
Research Institute of Electronics, Shizuoka University, Hamamatsu 432-8011, Japan;
机译:使用微秒脉冲直流电容耦合等离子体化学气相沉积系统制备氢化非晶碳膜,该系统在高达400 kHz的高频下运行
机译:射频功率对等离子体增强化学气相沉积生长的氢化非晶碳薄膜的热扩散率的影响
机译:气压对射频等离子体增强化学气相沉积法制备掺硼氢化非晶碳薄膜的影响
机译:射频等离子体化学气相沉积在FeRAM集成中用于氢阻挡层的非晶碳膜沉积
机译:通过脉冲激光沉积和化学气相沉积合成新型材料:第一部分:氮化碳薄膜的能量沉积和稳定性。第二部分:一维材料和装置的催化生长。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:在室温下通过低频等离子体化学气相沉积法沉积的氢化非晶碳膜