机译:独立衬底劈裂表面上的n-GaN肖特基接触的电特性:肖特基势垒高度对金属功函数的依赖性
Univ Fukui, Grad Sch Elect & Elect Engn, Fukui 9108507, Japan;
Hosei Univ, Res Ctr Micronano Technol, Koganei, Tokyo 1840003, Japan;
Univ Fukui, Grad Sch Elect & Elect Engn, Fukui 9108507, Japan;
机译:肖特基势垒高度依赖性基板裂解表面N-GaN肖特基触点的电气特性 - 金属工作障碍依赖性
机译:肖特基势垒高度依赖性基板裂解表面N-GaN肖特基触点的电气特性 - 金属工作障碍依赖性
机译:肖特基势垒高度依赖性基板裂解表面N-GaN肖特基触点的电气特性 - 金属工作障碍依赖性
机译:肖特基势垒高度对金属工作功能的依赖性
机译:理解金属/半导体肖特基接触的电性能:块体和纳米级结构中势垒不均匀性和几何形状的影响。
机译:碳纳米管悬浮肖特基势垒晶体管中Van Hove奇异性和电特性的温度依赖性的观察
机译:错误:“表面处理对甘肖孔屏障二极管屏障高度的金属 - 工作函数依赖性的影响”AIP adv。 8,115011(2018)
机译:界面结构对ptsi-si肖特基势垒接触电性能的影响。