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General Motors R&D Center, 480-106-269 Chemical & Environmental Sciences Laboratory, 30500 Mound Road, Warren, MI 48090-9055, USA;
photoelectrochemical device; hydrogen production; amorphous Si; SnO_2:F; ITO;
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机译:使用ALD TiO2涂层保护的适应性基于硅的多结太阳能电池的光电化学水分裂的集成装置
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