遠視野像逆フーリエ変換による光導波路端の電界分布測定方法の検討

摘要

NFP(Near-Field Pattern) and FFP(Far-Field Pattern) measurement are commonly used by evaluation method of ray field of the leaser and light waveguide. NFP is a technique for performing photography through the lens optical field in the vicinity of the waveguide end face. In fact, it is difficult to directly measure the electric field distribution for precise and accurate spatial position of the light intensity distribution at the waveguide end face. Therefore, we research the direct measurement method of electric field distribution at the light emitting end face by reverse fourier transformation of FFP. In the result, we report that this method can evaluate the light field at the light waveguide end face with a certain accuracy.%レーザーや光導波路の光フィールドの評価方法として、近視野像(NFP)及び遠視野像(FFP)計測がー般的に用いられる。NFPとしては通常、導波路端面近傍の光フィールドを、レンズを介して写真撮影を行う手法が知られているが、実際には、導波路端面における光強度分布の正確かつ高精度な空間的位置に対する電界分布を直接的に計測することは難しい。そこで、FFPを測定し、逆フーリエ変換によって光の出射端面における電界分布を直接計測する手法を検討した。その結果、本手法が、ある程度の精度で光導波路端面における光フィールド評価が可能であることが分かったので報告する。