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【24h】

Total dose response of a U.H.F. complementary-bipolar process (C-bip) using dielectric isolation (DI/SOI)

机译:U.H.F.的总剂量反应使用介电隔离(DI / SOI)的互补双极工艺(C-bip)

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摘要

Fast analog signal processing in ionizing radiation environments is today a growing activity for our ASIC design company. To answer this need, we have tested the total-dose response, up to 30 kGy(Si) (3 Mrad(Si)), of the NPN and PNP transistors used in the DI-Cbip UHF process from Harris Semiconductor. Results show a common-emitter current gain (/spl beta/) degradation of approximately 50% at usual current density. Degradation versus total dose exhibits saturation above over 20 kGy(Si) at 36 mGy(Si)/s (3.6 rad(Si)/s).
机译:对于我们的ASIC设计公司而言,如今在电离辐射环境中进行快速模拟信号处理是一项日益增长的活动。为了满足这一需求,我们测试了哈里斯半导体在DI-Cbip UHF工艺中使用的NPN和PNP晶体管的总剂量响应,最高达30 kGy(Si)(3 Mrad(Si))。结果显示,在通常的电流密度下,共发射极电流增益(/ spl beta /)下降约50%。降解与总剂量的关系在36 mGy(Si)/ s(3.6 rad(Si)/ s)下显示超过20 kGy(Si)的饱和度。

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