机译:用于正型化学放大抗蚀剂的曝光后烘烤工艺的化学和物理方面
机译:用于正型化学放大型抗蚀剂的曝光后烘烤工艺的化学和物理方面
机译:使用电子束光刻和化学放大的抗蚀剂工艺制造7纳米四分之一间距的线和间隔图案的理论研究:III。石英基板上的曝光后烘烤
机译:化学放大抗蚀剂中曝光后烘烤过程的化学和物理学
机译:化学放大后的抗蚀剂在曝光后烘烤过程中抗蚀剂组分对图像传播的影响
机译:正极化学放大光致抗蚀剂中的催化剂扩散。
机译:通过使用非化学放大的抗蚀剂和曝光后烘烤来制造具有改善的线边缘粗糙度的高分辨率掩模
机译:探索模拟放大抗蚀剂的极限分辨率:使用极端紫外线光刻的26nm致密线
机译:碳 - 碳加工过程中中间相形成的化学和物理方面