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摘要

Veeco Instruments announced that Vee-co CNT, formerly known as Ultratech/ Cambridge Nanotech, has shipped its 500th atomic layer deposition (ALD) system. The 500th system—the Fiji G2TM ALD system—went to North Carolina State University and will enable the university to perform a variety of research applications for next-generation electronic devices, including high-performance wearables and sensors. "The Veeco CNT Fiji G2 ALD system will be a critical tool to meet our research goals," said Bongmook Lee, Ph.D., research assistant professor of the NSF NERC ASSIST Center at North Carolina State University. "This ALD tool enables advances in our research for high-performance CMOS, nonvolatile memory, next-generation wide bandgap power devices, and environmental and physiological sensors. We selected the Veeco CNT Fiji G2 for its demonstrated capability to reliably deposit the most challenging oxide and nitride thin films."
机译:Veeco Instruments宣布,Vee-co CNT(以前称为Ultratech / Cambridge Nanotech)已交付其第500个原子层沉积(ALD)系统。第500个系统(即Fiji G2TM ALD系统)被授予北卡罗来纳州立大学,这将使该大学能够为下一代电子设备执行各种研究应用,包括高性能可穿戴设备和传感器。 “ Veeco CNT斐济G2 ALD系统将是实现我们研究目标的关键工具,”北卡罗莱纳州立大学NSF NERC ASSIST中心研究助理教授Bongmook Lee博士说。 “这款ALD工具使我们在高性能CMOS,非易失性存储器,下一代宽带隙功率器件以及环境和生理传感器方面的研究取得了进步。我们选择Veeco CNT Fiji G2的原因在于其能够可靠地沉积最具挑战性的氧化物和氮化物薄膜。”

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  • 来源
    《Evaluation Engineering》 |2017年第9期|4-5|共2页
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  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
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