机译:先进的还原过程光化学降解砷和硒-试剂的影响
Texas A&M Univ, Zachry Dept Civil Engn, College Stn, TX 77843 USA;
Texas A&M Univ, Zachry Dept Civil Engn, College Stn, TX 77843 USA;
Texas A&M Univ Qatar, Chem Engn Program, Doha, Qatar;
Texas A&M Univ, Zachry Dept Civil Engn, College Stn, TX 77843 USA;
Texas A&M Univ, Zachry Dept Civil Engn, College Stn, TX 77843 USA;
Texas A&M Univ, Zachry Dept Civil Engn, College Stn, TX 77843 USA|Texas A&M Univ Qatar, Chem Engn Program, Doha, Qatar;
advanced reduction processes; arsenic; reducing radicals; selenium; UV irradiation;
机译:先进还原工艺(ARP)对氯乙烯的光化学降解-试剂和pH值的影响
机译:毛细管电泳与水动力修饰的电渗流分离硒和砷化合物,氢化物诱导电感耦合等离子体质谱法在线还原硒(Ⅵ)为硒(Ⅳ)
机译:有机砷促进多面结设计的TiO_2上光化学污染物的降解:砷终止的表面化学和本体自由基形态的调控作用
机译:使用基于Aquablok的技术进行补救施工,将ISCR试剂放置砷和硒固定化
机译:通过原位微生物还原固定化的砷和硒的稳定性。
机译:砷暴露的生物效应和流行病学后果以及可以减轻体内砷损害的试剂
机译:在各种条件下使用紫外线和Fenton试剂的硝基苯(NB)的光化学降解(PCD)
机译:K031,K084,K101,K102,特征砷废物(D004),特征硒废物(D010)以及含砷和硒的p和U废物的最终最佳可用技术(BDaT)背景文件列表成分。第1卷