首页> 外文期刊>Интеллектуальная Соб >РОЛЬ ПОВЕРХНОСТНЫХ НЕСТЕХИОМЕТРИЧНЫХ ФАЗ НА СИНТЕЗ СЛОЕВ НА ОСНОВЕ ZNO
【24h】

РОЛЬ ПОВЕРХНОСТНЫХ НЕСТЕХИОМЕТРИЧНЫХ ФАЗ НА СИНТЕЗ СЛОЕВ НА ОСНОВЕ ZNO

机译:基于ZNO的表面非随机相在合成层中的作用

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
       

摘要

Исследованы процессы магнетронного формирования слоев ZnO:Ga при различных парциальных давлениях кислорода и паров цинка в составе потока реагентов к поверхности роста. Показано, что при температурах синтеза выше 200 ℃ происходит рост кристалличности слоев в результате увеличения подвижности осаждаемых атомов на поверхности роста, обусловленного термодесорбцией кислорода. Показано, что при температурах 350...450 ℃, близких к температуре десорбции цинка, рост слоев протекает с участием поверхностной нестехиометричной легкоплавкой фазы, обеспечивающей рост слоев в квазиравновесных условиях.%The growth processes of Ga doped ZnO layers by magnetron sputtering at various partial pressures of oxygen and zinc vapor near the growth surface has been studied. It is shown that an improvement in the crystallinity of the ZnO-based layers is observed at synthesis temperatures above 200 ℃ due to an increase in the mobility of the deposited atoms on the growth surface, which in turn is due to thermal desorption of oxygen. At synthesis temperatures of 350...450 ℃, close to the Zn desorption temperature, the growth of the ZnO layers proceeds with the participation of a surface non-stoichiometric low-melting phase, which ensures the growth of layers under quasi-equilibrium conditions.
机译:ZnO:Ga层的磁控管形成是在到达生长表面的试剂通量组成中,在氧气和锌蒸气的各种分压下进行的。结果表明,在高于200°C的合成温度下,由于氧的热脱附,生长表面上沉积原子的迁移率增加,层的结晶度增加。结果表明,在接近锌解吸温度的350 ... 450℃的温度下,层的生长发生在表面非化学计量的低熔点相的参与下,从而在准平衡条件下提供了层的生长。%磁控溅射在不同局部温度下掺杂Ga的ZnO层的生长过程。已经研究了生长表面附近的氧气和锌蒸气的压力。结果表明,在200℃以上的合成温度下,由于生长表面上沉积原子的迁移率增加而导致ZnO基层的结晶性得到改善,而这又归因于氧气的热脱附。在350 ... 450℃的合成温度(接近Zn解吸温度)下,ZnO层的生长伴随着表面非化学计量的低熔点相的参与,这确保了在准平衡条件下层的生长。

著录项

  • 来源
    《Интеллектуальная Соб》 |2017年第8期|94-100|共7页
  • 作者单位

    Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики им. Х.А. Амирханова Дагестанского научного центра РАН г. Махачкала, Российская Федерация;

    Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики им. Х.А. Амирханова Дагестанского научного центра РАН г. Махачкала, Российская Федерация;

    Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт физики им. Х.А. Амирханова Дагестанского научного центра РАН г. Махачкала, Российская Федерация;

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 rus
  • 中图分类
  • 关键词

    оксид цинка; магнетронное распыление; стехиометрия; микроструктура;

    机译:氧化锌磁控溅射;化学计量微观结构;
  • 入库时间 2022-08-17 23:57:13

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号