Dobór parametrów procesu wytwarzania sprzęgaczy siatkowych struktur fotonicznych przy zastosowaniu techniki trawienia skupioną wiązką jonową

摘要

Wytwarzania sprzęgaczy siatkowych struktur fotonicznych, przy zastosowaniu techniki trawienia skupioną wiązką jonową. Struktury te miały pełnić funkcję wprowadzania światła do ścieżek optycznych w układach scalonych. Z uwagi na nietypową geometrię sprzęgaczy, wykonanie ich przy zastosowaniu typowej technologii fotolitografii jest niemożliwe. Z tego powodu do procesu produkcji oraz analizy wyników wykorzystano urządzenie Dual Beam, łączące w sobie zarówno system skupionej wiązki jonowej FIB (Focused lon Beam), jak i mikroskop elektronowy SEM (Scanning Electron Microscopy).%The work presented in this paper was aimed at fabricating special grating couplers for photonic applications using a focused ion beam technology. Because of the fact that the fabrication of these structures with an assistance of the traditional photolithography was impossible due to their non - standard geometry, the FIB technology had been used. All the investigations were made using a Dual Beam system which is a type of the FIB combining both, the FIB and the SEM (Scanning Electron Microscopy) in a single system, which expands the capabilities of the FIB by the possibility of performing electron beam assisted inspection and deposition, which is less harmful than using the ion beam.