Skanowania optyczne powierzchni jako narzędzia oceny ilościowej i jakościowej powierzchni warstw i powłok

摘要

W pracy prezentowane są techniki pomiarów profili optycznych cienkich warstw wyznaczone z profilometrii optycznej i elipsometrii skaningowej. Pierwsza z wymienionych metod umożliwia uzyskanie mapy lokalnych współczynników odbicia z małych obszarów powierzchni (10~(-2) mm~2), druga metoda umożliwia wyznaczanie zmiany stanu polaryzacji wąskiej wiązki promieniowania odbitego od cienkich warstw. Badania te pozwalają opisać topografię powierzchni z dużych obszarów (rzędu od kilku do kilkunastu cm~2) uzupełniając tym samym pomiary wykonane przy pomocy mikroskopii sił atomowych (AFM). Analiza obrazów uzyskana przy użyciu tych metod, umożliwia wyznaczenie parametrów topograficznych powierzchni i warstw.%The work presents thin film profiles measured by the optical profilometry PO and spectroscopic ellipsometry SSE techniques. First technique allows to get the surface map of intensities collected from small (10~(-2) mm~2) spots while the second allows to obtain surface map of the phase differences of reflected radiation from studied sample. These studies enable to find many interesting features concerning surfaces in a much larger area than AFM technique. The analysis of obtained images allowed to determine most important statistic parameters of film surfaces, as variation of film thickness, surface roughness, and distribution of height irregularities.