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【24h】

Photochemische Ätztechnik als Favorit

机译:光化学蚀刻技术倍受青睐

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摘要

Die fortschreitende Miniaturisierung im Halbleiterelektronikbereich treibt die realisierten Funktions-elemente und deren Fertigungsprozesse an die physikalischen Grenzen. Es entstehen komplexe und äußerst filigrane Komponenten, die an das Fertigungsverfahren hohe Ansprüche hinsichtlich Kosten und Präzision stellen. Am Beispiel der Herstellung von Leadframes werden zwei Verfahren miteinander verglichen: das photochemische Ätzen und das Stanzen. Bei besonders dünnen Leadframes mit komplexem Design spielt die Ätztechnik hierbei eine große Rolle.
机译:半导体电子领域中不断发展的小型化将实现的功能元件及其制造过程推向物理极限。结果是复杂且花丝的组件对成本和精度提出了很高的要求。以生产引线框架为例,将两个过程相互比较:光化学蚀刻和冲压。在设计复杂的特别细的引线框架的情况下,蚀刻技术在这里起着主要作用。

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