机译:全MOCVD在p-InP衬底上的低阈值FS-BH激光器
Mitsubishi Electric Corp., Hyogu, Japan;
III-V semiconductors; gallium arsenide; gallium compounds; indium compounds; leakage currents; optical workshop techniques; semiconductor growth; semiconductor junction lasers; vapour phase epitaxial growth; 12 mA; 40 mW; CW operation; FS-BH laser; InGaAsP-InP; InP substrate; MOCVD; crystal facets; fabrication method; low threshold laser; p-type substrate; selective growth characteristics; semiconductor lasers; threshold current;
机译:完全由MOVPE在p-InP衬底上生长的85 / spl deg / C的高效0.5 W / A应变多量子阱激光器
机译:在天然AlN衬底上生长的光泵浦室温低阈值深紫外激光器
机译:在蓝宝石衬底上生长的基于AlGaN的多量子阱激光器在249 nm和256 nm处的低阈值激发发射
机译:在P-InP衬底上的全MOCVD生长的BH激光器
机译:基于在结构化衬底上生长的低阈值应变InGaAs / GaAs量子阱激光器的光电器件
机译:超低阈值等离激元WGM激光在Au基板上从单个ZnO六角形微棒发射用于等离激元激光器
机译:在蓝宝石衬底上生长的基于alGaN的多量子阱激光器在249 nm和256 nm处的低阈值受激发射