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机译:具有CBE选择性集电极触点再生长的“高频”准平面GaInP / GaAs HBT
CNET, Bagneux, France;
III-V semiconductors; chemical beam epitaxial growth; gallium arsenide; gallium compounds; heterojunction bipolar transistors; indium compounds; semiconductor growth; solid-state microwave devices; 25 GHz; 30 GHz; CBE selective collector contact regrowth; GaInP-GaAs; chemical beam epitaxy; large scale integration; maximum oscillation frequency; multilayer HBT structure; planar surface topology; quasiplanar HBT;
机译:通过选择性CBE再生长实现全平面AlGaAs / GaAs HBT
机译:具有亚晶体管通孔结构的多指GaInP / GaAs集电极-隧穿集电极HBT的热稳定性研究
机译:GaInP / GaAs集电极-向上隧穿-集电极异质结双极晶体管(C-up TC-HBT):优化制造工艺和外延层结构以用于高效大功率放大器
机译:CBE选择性基极和集电极触点再生长实现的平面自对准GaAlAs / GaAs HBT技术
机译:通过减少基极宽度和选择性外在基极再生长改善了HBT性能。
机译:一种高频GaInp / Gaas异质结双极晶体管,采用选择性埋入式子集电极,具有降低的基极 - 集电极电容
机译:采用TBa / TBp和asH3 / pH3源生长的GaInp / Gaas异质结双极晶体管的比较研究