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机译:具有高阈值电压的隐栅增强型GaN HEMT
Micro & Nanotechnology Lab. & Dept. of Electr. & Comput. Eng., Univ. of Illinois, Urbana-Champaign, IL, USA;
III-V semiconductors; aluminium compounds; gallium compounds; high electron mobility transistors; substrates; E-HEMT fabrication; GaN-AlGaN; SiC; annealing; drain current; enhancement-mode high electron mobility transistors; low-damage controllable dry gate-recessi;
机译:部分和完全凹入栅增强模式的AlGaN / GaN MIS HEMT在击穿机理上的比较研究
机译:Si上的增强型金属绝缘体半导体GaN / AlInN / GaN异质结构场效应晶体管,阈值电压为+3.0 V,阻断电压为1000 V以上
机译:嵌入式栅结构方法通常用于电力电子应用中的高压AlGaN / GaN HEMT
机译:使用低能氟离子注入GaN层的大栅极摆幅和高阈值电压增强模式AlGaN / GaN HEMT
机译:高压GaN HEMT的栅极下沉阈值电压调整技术。
机译:凹入式栅极结构对具有薄AlOxNy MIS栅极的AlGaN / GaN-on-SiC MIS-HEMT的影响
机译:si上的增强型金属 - 绝缘体 - 半导体GaN / alInN / GaN异质结构场效应晶体管,阈值电压为+ 3.0V,阻断电压高于1000V