机译:激光激活对不同沟道长度的多晶硅薄膜晶体管器件性能的影响
Department of Electronic Engineering, National Taiwan University of Science and Technology, 43, Sec. 4, Keelung Rd., Taipei, 106, Taiwan, Republic of China;
机译:源极/漏极激活对准分子激光晶体化多晶硅薄膜晶体管的沟道长度的影响
机译:通过准分子激光退火制备的多通道多晶硅薄膜晶体管,其通道宽度与晶粒尺寸相当或更小
机译:多晶硅薄膜晶体管中漏电流对沟道膜质量的依赖性以及使用器件仿真的分析
机译:准分子激光结晶多晶硅薄膜晶体管中晶界的影响
机译:基于有机薄膜场效应晶体管和与硅固态器件集成在一起的固定离子通道的化学和生物传感体系结构的方法和评估。
机译:凸源/漏极(RSD)和垂直掺杂漏极(LDD)多Si薄膜晶体管
机译:高性能N沟道多晶锗薄膜晶体管通过连续波激光结晶和绿色纳秒激光退火源和排水掺杂剂活化