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次世代半導体保護膜向け低温硬化型ポジ型感光性ポリイミドを開発

机译:开发用于下一代半导体保护膜的低温可固化正型光敏聚酰亚胺

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摘要

東レ(株)は、新たな分子設計技術と架橋技術により、高い耐薬品性や耐熱性を実現しながら170℃の低温硬化ができ、かつ残留応力が従来の低温硬化型材料の約半分となる13MPa以下のポジ型感光性ポリイミドの開発に成功した。
机译:东丽株式会社能够通过使用新的分子设计技术和交联技术,在170°C的温度下进行低温固化,同时实现高耐化学性和耐热性,并且残余应力约为传统低温固化材料的一半。我们已经成功开发了13 MPa或更低的正型光敏聚酰亚胺。

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