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6インチ口径炭化ケイ素単結晶ウエハの開発に成功

机译:成功开发出6英寸碳化硅单晶晶片

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摘要

新日本製織(株)は、今後の高性能パワー半導体デバイスの量産・普及のキー材料である、6インチ口径の炭化ケイ素(SiC)単結晶ウエハの開発に成功した。SiC単結晶は、通常、昇華再結晶法と呼ばれる方法により製造される。この方法では、摂氏2500℃以上の超高温に加熱された製造装置中で、粉末状のSiC原料から昇華させた蒸気を、種結晶上に再結晶化させることによりSiC単結晶の成長を行う。
机译:Shinnihon Weaving Co.,Ltd.已成功开发出直径为6英寸的碳化硅(SiC)单晶晶片,这是未来大规模生产和推广高性能功率半导体器件的关键材料。 SiC单晶通常通过称为升华再结晶法的方法来制造。在该方法中,在加热至2500℃以上的超高温的制造装置中,使从粉末状SiC原料升华的蒸气在晶种上再结晶,从而生长SiC单晶。

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