ナノインプリントのテンプレートを段差なく高精度でつなぐ大面積対応の量産を可能とする技術を開発

摘要

大日本印刷㈱は、ナノインプリント用の複数のテンプレートを高精度でつなぎ、大面積対応の部材の量産を可能にする革新的な「つなぎ合わせ技術」を開発した。昨今、ナノレベルのナノインプリントに対する大面積化の要望が高まっているが、これまで数十nm単位のパターンによる超微細加工は、半導体製品用フォトマスク等の15センチ角程度のサイズに限られており、大面積に展開するにはテンプレートをつなぎ合わせる必要があった。しかし、つなぎ目部分に段差が生じるという課題があり、この段差を数十nmに抑えたとしてもリソグラフィ用のレジストを用いたインプリントでは段差が影響して不具合が発生してしまうため、生産への利用は困難な状況にあった。