単軸自動偏心機構を搭載した小径基板洗浄乾燥装置の開発

摘要

シリコン(Si)、ガリウム砒素(GaAs)、サファイアなどに代表される単結晶素材は、今日のオプ卜·エレクトロニクスデバイス技術を支えるキーマテリアルである。量産用として4インチ以上、大きいものでは12インチなどの大口径基板が使用されている。比較的最近の素材である炭化ケィ素(SiC)や窒化ガリウム(GaN)についても大口径化が進んでいる。ダイヤモンド基板に代表される新規素材においても、同様に大口径化が予想される。しかしながら、新規素材が半導体デバイスの量産工程において、使用可能なサイズにまで大口径化するには、ある程度の時間を要する。そのため新規素材を用いた研究開発は、小径基板を積極的に活用し、加工技術開発やデバイス応用技術開発を行う必要がある。一般的に半導体デバイス用基板には、原子レベルまでの平坦性と高度な表面清浄性が求められる。このような原子レベルの平坦性と高度な表面清浄性は、開発初期の小径基板であっても大口径基板と同様であるべきである。