ASMLが40nm液浸露光装置「XT：1900i」を発表

摘要

今年は，液浸リソグラフィ装置を用いたデバイスが量産開始される年と言っていいだろう。同装置市場では，ASMLが先行してシリーズを拡大し，ニコンがそれに続いて製品を投入している。キヤノンは，まだ製品化を発表していない。